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GB/T 19444-2004 硅片氧沉淀特性的测定 间隙氧含量减少法

下载格式:pdf标准分类:国家标准

GB/T 19444-2004标准基本信息

标准名称:硅片氧沉淀特性的测定 间隙氧含量减少法

标准号:GB/T 19444-2004

发布日期:2004-02-05

实施日期:2004-07-01

中国标准分类:H26

国际标准分类:29 电气工程,29.040 绝缘流体

归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会

执行单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会

主管部门:国家标准化管理委员会

国家标准《硅片氧沉淀特性的测定 间隙氧含量减少法》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口上报及执行,主管部门为国家标准化管理委员会。

洛阳单晶硅有限责任公司。

GB/T 19444-2004预览图:

GB/T 19444-2004 硅片氧沉淀特性的测定  间隙氧含量减少法

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