GB/T 25188-2010标准基本信息
标准名称：硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量 X射线光电子能谱法
标准号：GB/T 25188-2010
发布日期：2010-09-26
实施日期：2011-08-01
中国标准分类：G04
国际标准分类：71 化工技术，71.040 分析化学，71.040.40 化学分析
归口单位：全国微束分析标准化技术委员会
执行单位：全国微束分析标准化技术委员会
主管部门：国家标准化管理委员会
国家标准《硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量 X射线光电子能谱法》由TC38（全国微束分析标准化技术委员会）归口上报及执行，主管部门为国家标准化管理委员会。
中国科学院化学研究所、中国计量科学研究院。
GB/T 25188-2010预览图：
