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GB/T 34481-2017 低位错密度锗单晶片腐蚀坑密度(EPD)的测量方法

下载格式:pdf标准分类:国家标准

GB/T 34481-2017标准基本信息

标准名称:低位错密度锗单晶片腐蚀坑密度(EPD)的测量方法

标准号:GB/T 34481-2017

发布日期:2017-10-14

实施日期:2018-07-01

中国标准分类:H25

国际标准分类:77 冶金,77.040 金属材料试验

归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会

执行单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会

主管部门:国家标准化管理委员会

国家标准《低位错密度锗单晶片腐蚀坑密度(EPD)的测量方法》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口上报及执行,主管部门为国家标准化管理委员会。

云南中科鑫圆晶体材料有限公司、云南临沧鑫圆锗业股份有限公司、中科院半导体研究所。

GB/T 34481-2017预览图:

GB/T 34481-2017 低位错密度锗单晶片腐蚀坑密度(EPD)的测量方法

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