YS/T 719-2009标准基本信息
标准名称：平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶
标准号：YS/T 719-2009
发布日期：2009-12-04
实施日期：2010-06-01
制修订：制定
中国标准分类：H63
国际标准分类：77.150.99
技术归口：全国有色金属标准化技术委员会
批准发布部门：工业和信息化部
行业分类：无
标准类别：无
起草单位：利达光电股份有限公司
起草人：李智超、杨太礼 等
YS/T 719-2009预览图：
YS/T 719-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶
下载格式：pdf标准分类：行业标准
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