T/IAWBS 008-2019标准基本信息
标准名称：SiC晶片的残余应力检测方法
标准编号：T/IAWBS 008—2019
英文标题：Experimental method for residual stress in SiC wafers
国际标准分类号：29.045
国民经济分类：C398 电子元件及电子专用材料制造
发布日期：2019年12月27日
实施日期：2019年12月31日
起草人：苏飞、闫方亮、陆敏、郑红军、陈鹏、林雪如、刘祎晨、韩超
起草单位：中关村天合宽禁带半导体技术创新联盟、北京聚睿众邦科技有限公司、北京航空航天大学、北京三平泰克科技有限责任公司
范围：本标准规定了SiC晶片内部残余应力的光学无损检测方法。本标准适用于晶片厚度适当，对波长400-700nm的可见光范围内测试光的透过率在30%以上的SiC晶片。
T/IAWBS 008-2019预览图：
