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T/GVS 002-2021 高精度磁控溅射镀膜设备通用技术要求

下载格式:pdf标准分类:团体标准

T/GVS 002-2021标准基本信息

标准名称:高精度磁控溅射镀膜设备通用技术要求

标准编号:T/GVS 002—2021

英文标题:Generic specification for high precision magnetron sputtering coating plant

国际标准分类号:23.160

中国标准分类号:J 78

国民经济分类:C344 泵、阀门、压缩机及类似机械制造

发布日期:2021年06月28日

实施日期:2021年06月28日

起草人:李晓刚、聂鹏、叶俊文、吴标平、黎子辉、吴洽、冀鸣、石澎、黄志云、胡双丽、章艺锋、邓志雄。

起草单位:中山凯旋真空科技股份有限公司、广东省中山市质量技术监督标准与编码所、华南理工大学、中山市博顿光电科技有限公司、中山火炬职业技术学院。

范围:本文件规定了高精度磁控溅射镀膜设备的术语和定义、组成、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存。本文件适用于极限压力在10-5 Pa~10-3 Pa范围的高精度磁控溅射镀膜设备(以下简称“设备”)。

T/GVS 002-2021预览图:

T/GVS 002-2021 高精度磁控溅射镀膜设备通用技术要求

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