T/CASAS 032-2023标准基本信息
标准名称：碳化硅晶片表面金属元素含量的测定电感耦合等离子体质谱法
标准编号：T/CASAS 032—2023
英文标题：Test method for the content of metal elements on the surface of silicon carbide wafer—Inductively coupled plasma mass spectrometry
国际标准分类号：31-030
国民经济分类：C398 电子元件及电子专用材料制造
发布日期：2023年06月19日
实施日期：2023年06月19日
起草人：崔潆心、陈秀芳、谢雪健、杨祥龙、徐现刚、来玲玲、于国建、冯淦、丁雄杰、秋琪、林云昊、赵海明、钮应喜、金向军、徐瑞鹏
起草单位：山东大学、广州南砂晶圆半导体技术有限公司、瀚天天成电子科技(厦门)有限公司、广东天域半导体股份有限公司、泰科天润半导体科技（北京）有限公司、杭州海乾半导体有限公司、安徽长飞先进半导体有限公司、中国科学院半导体研究所、中电化合物半导体有限公司、北京第三代半导体产业技术创新战略联盟
T/CASAS 032-2023预览图：
