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GB/T 43894.1-2024 半导体晶片近边缘几何形态评价 第1部分:高度径向二阶导数法(ZDD)

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GB/T 43894.1-2024标准基本信息

标准名称:半导体晶片近边缘几何形态评价 第1部分:高度径向二阶导数法(ZDD)

标准号:GB/T 43894.1-2024

发布日期:2024-04-25

实施日期:2024-11-01

标准类别:方法

中国标准分类号:H21

国际标准分类号:77 冶金,77.040 金属材料试验

归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会

执行单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会

主管部门:国家标准化管理委员会

国家标准《半导体晶片近边缘几何形态评价 第1部分:高度径向二阶导数法(ZDD)》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口上报,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行,主管部门为国家标准化管理委员会。

主要起草单位 山东有研半导体材料有限公司、浙江丽水中欣晶圆半导体科技有限公司、金瑞泓微电子(嘉兴)有限公司、中环领先半导体材料有限公司、广东天域半导体股份有限公司、鸿星科技(集团)股份有限公司。

主要起草人 王玥 、朱晓彤 、孙燕 、宁永铎 、徐新华 、徐国科 、李春阳 、张海英 、陈海婷 、丁雄杰 、郭正江 。

GB/T 43894.1-2024预览图:

GB/T 43894.1-2024 半导体晶片近边缘几何形态评价  第1部分:高度径向二阶导数法(ZDD)

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