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T/IAWBS 013-2019 半绝缘碳化硅单晶片电阻率非接触测量方法

下载格式:pdf标准分类:团体标准

T/IAWBS 013-2019标准基本信息

标准名称:半绝缘碳化硅单晶片电阻率非接触测量方法

标准编号:T/IAWBS 013—2019

英文标题:The measurement method of resistivity for semi-insulating silicon carbide substrate

国际标准分类号:29.045

国民经济分类:C398 电子元件及电子专用材料制造

发布日期:2019年12月27日

实施日期:2019年12月31日

起草人:侯晓蕊、王英民、李斌、魏汝省、王光耀、王程、马康夫、刘燕燕、田牧、任慧珍、徐伟、毛开礼、潘磊、陆敏、郑红军、刘祎晨。

起草单位:中关村天合宽禁带半导体技术创新联盟、中国电子科技集团公司第二研究所、北京世纪金光半导体有限公司、中国电子科技集团公司第五十五研究所、中国电子科技集团公司第四十六研究所。

范围:本标准规定了半绝缘碳化硅电阻率非接触测量方法。本标准适用于电阻率测量范围: 105Ω?cm-1012Ω?cm;样品直径:50.8mm-200mm;样品厚度范围:250μm—5000μm的衬底。

T/IAWBS 013-2019预览图:

T/IAWBS 013-2019 半绝缘碳化硅单晶片电阻率非接触测量方法

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