T/ICMTIA 5.3-2020标准基本信息
标准名称:集成电路用ArF光刻胶光刻检测方法
标准编号:T/ICMTIA 5.3—2020
英文标题:Lithography ArF Photo Resist of measurement for Intergraded circuits
国际标准分类号:29.045
中国标准分类号:G64
国民经济分类:C266 专用化学产品制造
发布日期:2020年12月31日
实施日期:2021年03月01日
起草人:许从应、毛智彪、马潇、顾大公、李珊珊
起草单位:宁波南大光电材料有限公司
范围:本文件适用于集成电路用ArF光刻胶。
T/ICMTIA 5.3-2020预览图: