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T/ICMTIA 5.3-2020 集成电路用ArF光刻胶光刻检测方法

下载格式:pdf标准分类:团体标准

T/ICMTIA 5.3-2020标准基本信息

标准名称:集成电路用ArF光刻胶光刻检测方法

标准编号:T/ICMTIA 5.3—2020

英文标题:Lithography ArF Photo Resist of measurement for Intergraded circuits

国际标准分类号:29.045

中国标准分类号:G64

国民经济分类:C266 专用化学产品制造

发布日期:2020年12月31日

实施日期:2021年03月01日

起草人:许从应、毛智彪、马潇、顾大公、李珊珊

起草单位:宁波南大光电材料有限公司

范围:本文件适用于集成电路用ArF光刻胶。

T/ICMTIA 5.3-2020预览图:

T/ICMTIA 5.3-2020 集成电路用ArF光刻胶光刻检测方法

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