T/IAWBS 014-2021标准基本信息
标准名称：碳化硅单晶抛光片位错密度的测试方法
标准编号：T/IAWBS 014—2021
英文标题：Test method for dislocation density of silicon carbide polished wafers
国际标准分类号：29.045
国民经济分类：C398 电子元件及电子专用材料制造
发布日期：2021年09月15日
实施日期：2021年09月22日
起草人：彭同华、佘宗静、娄艳芳、王大军、赵宁、陈海芹、王波、刘春俊、郭钰、杨建。
起草单位：中关村天合宽禁带半导体技术创新联盟，北京天科合达半导体股份有限公司。
范围：本文件规定了碳化硅单晶抛光片位错密度的测试方法。本文件适用于晶面偏离{0001}面角度为0°～8°的碳化硅单晶抛光片的位错密度的测试。
T/IAWBS 014-2021预览图：
