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T/STIC 110080-2022 化学气相沉积法(CVD)培育钻石裸钻

下载格式:pdf标准分类:团体标准

标准名称:化学气相沉积法(CVD)培育钻石裸钻

标准编号:T/STIC 110080—2022

英文标题:Loose laboratory-grown diamond by chemical vapor deposition technique

国际标准分类号:39.060

中国标准分类号:D 59

国民经济分类:C243 工艺美术品制造

发布日期:2022年07月30日

实施日期:2022年08月10日

起草人:龚闯、满卫东、胡庆坡、韩初、杨春梅、杨武、骆海燕、高春燕、郑学东。

起草单位:上海征世科技股份有限公司、上海铂世光半导体科技有限公司、上海钲戴梦商贸有限公司、武汉工程大学材料科学与工程学院、方圆标志认证集团上海有限公司、上海市检验检测认证协会。

T/STIC 110080-2022预览图:

T/STIC 110080-2022 化学气相沉积法(CVD)培育钻石裸钻

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