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T/ACCEM 515-2025 高性能高密度沟槽栅IGBT器件

标准名称:高性能高密度沟槽栅IGBT器件

标准编号:T/ACCEM 515—2025

国际标准分类号:31.080.01半导体器分立件综合

中国标准分类号:L 42

国民经济分类:C397 电子器件制造

发布日期:2025年03月20日

实施日期:2025年04月18日

起草人:王丕龙、王新强、何钧、李学贵、张凯、吴洪基、陈佳恩、侯彩侠、王永铖、朱建英、朱加庚、马丽娜、李娜、武瑶萍、邓颖、谭文涛、贾洪玉、李永、郑建国、杨玉珍、秦鹏海、李婉秋、刘增、豆坤、李晓东、李大鑫

起草单位:青岛佳恩半导体有限公司、青岛佳恩半导体科技有限公司、深圳佳恩功率半导体有限公司、苏州创芯致尚微电子有限公司

T/ACCEM 515-2025预览图:

T/ACCEM 515-2025 高性能高密度沟槽栅IGBT器件

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