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GB/T 14141-2009 硅外延层、扩散层和离子注入层薄层电阻的测定 直排四探针法

下载格式:pdf标准分类:国家标准

GB/T 14141-2009标准基本信息

标准名称:硅外延层、扩散层和离子注入层薄层电阻的测定 直排四探针法

标准号:GB/T 14141-2009

发布日期:2009-10-30

实施日期:2010-06-01

全部代替标准:GB/T 14141-1993

中国标准分类:H80

国际标准分类:29 电气工程,29.045 半导体材料

归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会

执行单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会

主管部门:国家标准化管理委员会

国家标准《硅外延层、扩散层和离子注入层薄层电阻的测定 直排四探针法》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口上报及执行,主管部门为国家标准化管理委员会。

宁波立立电子股份有限公司、南京国盛电子有限公司、信息产业部专用材料质量监督检验中心。

GB/T 14141-2009预览图:

GB/T 14141-2009 硅外延层、扩散层和离子注入层薄层电阻的测定  直排四探针法

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